虽然我们能不能在15年内追上ASML还不敢确定，也不能因为有一点点进步，就否认国产芯片供应链还有相当长的一段路要走。 上海微電子28nm光刻機 但上海微电子在14nm光刻机上的突破，还有前不久龙芯公司潜心二十年推出的自主指令架构集，都进一步说明，只要我们能够坚持不懈地努力，“卡脖子”的难题终究会一个一个地被解决掉。 不过，最近日经亚洲一篇关于我国芯片产业链实力调查的文章，终于透露了上海微电子28纳米和14纳米光刻机新进展，不但28nm光刻机要来了，甚至14nm光刻机也已经突破，情况确实令人振奋。
其中，SSX600 系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求。 目前上海微电子光刻机产品包括 IC 前道制造 SSX600 系列光刻机；IC 后道先进封装 SSB500 系列光刻机； LED、MEMS、Power Devices 制造 SSB300 系列光刻机； TFT 曝光 SSB200 系列光刻机。 三坐标测量机产品是集光、机、电、算一体化的多功能精密计量仪器，是现代几何计量领域的检测潮流。 新天光电作为国内首批研发制造三坐标产品的企业，早在1984年12月就制造出国内第一台JS05三坐标测量机，该产品通过了国家部级认证鉴定，荣获1985年机械工业部科技部科技成果三等奖。 现在，新天光电为了满足不同的市场需求，推出了CLASSIC系列、MAGI系列三坐标测量机。 并分别配备了手动版和自动版，以便客户结合实际需求自由选择。
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同時，光刻機也是目前晶圓製造產線中成本最高的半導體設備，約佔晶圓生產線設備總成本的27%。 本机为电动液压加荷、传感器测力、数字显示力值、打印机打印力值数据、并换算抗压强度。 本试验机符合标准《普通混凝土力学性能实验方法标准》，应手动控制加载速度，并具有加荷速度指示装置、峰值保持、过载保护功能，是建筑、建材、公路桥梁等工程单位试验检测设备。 思特威重磅推出首颗线阵CMOS图像传感器，赋能工业线阵相机应用思特威重磅推出首颗LA（Linear）线阵系列4K分辨率高速工业CMOS图像传感器——SC430LA。 中科院去年提出要“把卡脖子清单转化为任务清单”，集中精力解决一批“卡脖子”的难题，其中光刻机就被作为例子专门提了出来。
相对于IC制造用光刻机，封装所用光刻机的研发难度要小很多，市场空间也更小，但后发的光刻机厂商可以先在封装领域进行积累。 上海微电子官网显示，该公司光刻机产品分为用于IC前道制造的600系列光刻机和用于IC后道先进封装的500系列光刻机。 其中，600系列光刻机最新型号SSA600/20的分辨率为90nm，而500系列光刻机的最小分辨率为1μm。
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放眼观望，光刻机已经成为一个高度垄断的行业，荷兰的AMSL几乎垄断了所有的高端光刻机市场，台积电、三星、intel、海力士等与荷兰的ASML形成了利益共同体。 随着，我国在光刻机领域的深入研究，必定有更多的研究成果，同时，我国在碳基芯片领域也有所突破，有望代替现在的硅基芯片。 但眼下已进入2022年，尚未见上海微电子发布“28nm光刻机”。 目前，28nm制程虽然已不是手机处理器的最优选择，但是在物联网等众多市场，28nm仍然是主流制程工艺节点，不少晶圆厂基于28nm推出了在成本、功耗、性能等方面更具优势的工艺。
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在光源波长及k1不变的情况下，要想提升分辨率，则需要提升n或者sinθ值。 由于sinθ与镜头有关，提升需要很大的成本，目前sinθ已经提升到0.93，已很难再提升，而且其不可能大于1。 上海微電子28nm光刻機的突破來自國內背後強大的半導體產業鏈供應商，有北京科益虹的光源系統、國望光學的鏡頭、華卓精科的浸入式雙工作台、浙江啟爾機電的浸液系統等等。 上海微電子和荷蘭ASML都是系統集成商，關鍵零部件多數來自第三方企業，並不是完全由自己生產。 荷蘭ASML最先進的EUV光刻機，90%的關鍵零部件都需要進口。
一般来讲，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。 只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。 事实上EUV光刻机的出现，确实是帮助业界突破7nm制程的一个关键。
上海微電子28nm光刻機: 上海微电子即将交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机
中國光刻機龍頭上海微電子（SMEE）28nm光刻機，進駐富士康青島封測廠正式投產。 （取材自自媒體科技侃侃侃）中國媒體IT之家報導，11月26日在青島正式投產的富士康集團第一座晶圓級封測廠，引進上海微電子多達46台的國產28nm（奈米）光刻機。 搜索该网站关于SMEE的历史信息，可以看到，早在去年10月，verdict就曾报道称，“中国首台国产28nm光刻机预计2021年底前交付”。 华卓精科的招股书显示，华卓精科还对双工件台技术进一步进行纵向延伸，突破了当前业内先进的六自由度磁浮微动台技术，实现了对微动台高阶柔性模态的抑制，使其运动精度优于2nm，大大提高了双工件台的分辨率。
截至发稿，上海微电子尚未对被列入UVL清单一事做出回应。 上海微電子28nm光刻機 上海微電子28nm光刻機 而药明生物高管今天上午表示，此次被列入UVL主要原因是新冠疫情阻断调查，美国商务部没办法来到中国检查。 该公司CEO陈智胜提到，被列入UVL的企业可以采取有关措施以争取从名单中被移除，主要是公司自己做出承诺（相关出口管制产品用于自用，不作转售），或是等待美国商务部来检查。
上海微電子28nm光刻機: 上海微電子：第一台28nm國產光刻機交付在即
特别是高端一点的光刻机,比如193nm ArF浸润式光刻机,可用于14nm,就只能从ASML进口。 至于通够用于7nm及以下工艺的EUV光刻机,只有ASML能生产,并不能卖给中国大陆厂商。 上海微電子28nm光刻機 上海微电子说是攻克了28nm光刻机，可迟迟不见量产，急需的芯片自然也没造出来过，中国企业等不起。 目前的前道光刻机市场，基本上由荷兰ASML和日本的尼康、佳能这三家垄断，市场份额占到99%。 尤其是ASML，市场份额就一直保持在60%以上，并且也只有它能够生产高端EUV光刻机。 富士康微信公众号发布，11月26日上午，富士康半导体高端封测项目投产仪式在青岛西海岸新区举行。
世界杯接连爆冷VAR技术引关注，电子竞技领域也将拥抱AI随着2022卡塔尔世界杯的连续爆冷，观众对其VAR（视频助理裁判）的热议甚嚣尘上。 除了传统竞技领域中引进了先进技术的支持，另一个正在崛起的电子竞技领域也将拥有高科技电子裁判。 目前公司光刻機可以應用於積體電路產業鏈中晶圓製造、封裝測試，以及平板顯示、高亮度 LED 等領域。 目前上海微電子直接持有各類專利及專利申請超過2400項。 目前產線中光刻機主要依賴於進口，以中國產線長江存儲為例，其光刻機全部來自於 ASML 和Canon 。
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SSX200系列，专用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造，可应用于2.5代～6代的TFT显示屏量产线。 5G技術的到來，帶來了很多新的機會，它將給各行各業帶來新的變化，在各行各業中發揮重要作用。 5G技術不僅是一項國家戰略項目，也是國家推動高質量發展的一個重要戰略領域。
2020年和2021年注定是不平凡的两年，美国政府在芯片领域技术对中国的封锁依旧没有任何松动。 而在本月1日，有行业分析师也发微博称，中芯国际之前一直有申请一类关键设备（用于14nm），但一次没有通过，但这次已经获得通过。 这便意味着，中芯国际能从美国购买相应的关键设备，用于14nm以及成熟芯片的制造了。 这里需要指出的是，北京科益虹源光电是中国唯一、世界第三家具备高端准分子激光技术研究和产品化的公司，同时也正是上海微电子的光刻机的光源系统的供应商。