但实际上，上海微电子此次推出的并不是常说的用于芯片前道制造的光刻机，而是用于后道封装的光刻机，这种光刻机的研发门槛相对较低，市场空间也更小。 根据上海微电子官网资料显示，目前其已量产的光刻机主要有 SSX600 和 SSX500 两个系列。 SSB500 系列步进投影光刻机不仅适用于晶圆级封装的重新布线（RDL）以及 Flip Chip 工艺中常用的金凸块、焊料凸块、铜柱等先进封装光刻工艺，还可以通过选配背面对准模块，满足 MEMS 和 2.5D/3D 封装的 TSV 光刻工艺需求。 “OPC是EDA（电子设计自动化）工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。 计算光刻OPC原理图 2005年，从上海回到学校之后，刘世元在摸索中逐渐找准了自己的学术定位：面向IC制造需求，立足先进光刻与纳米测量基础理论及学术前沿开展研究。 中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示，该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。
所以，国内的光刻机技术从未停止研发，我们也有自主技术的光刻机与海外差距没有如今那么大， 只是后来由于海外光刻机企业的日渐强大，以及当时发展芯片产业时机未到，国产的光刻机产业链逐渐凋零，如今经过近十年时间的努力，国内光刻机产业链还是有望再度打通的。 ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示：“虽然每个细分市场的需求动态存在分化，但我们整体的客户需求依然强劲。 在物镜系统研发方面，主要由中科院长春光机所（现北京国望光学）负责。 投影物镜是精密光学部件，直接决定着曝光的成像质量，必须保证投影物镜在工作状态中的高度稳定。 此前NA 0.75光刻机曝光光学系统已经通过02专项验收，满足90nm级ArF干式光刻机的需要。 在浸液系统方面，主要由浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室和浙江启尔机电负责，2018年底，浙江启尔机电总投资5亿元的“光刻机浸液系统产品研制与中试基地”在杭州青山湖封顶，该项目主要研究光刻机浸液系统，目前已经完成建设。
上海微電子 duv: 日本也妄想制裁中国？最快今春动手！你们觉得它有这个实力吗？
虽然不太了解的朋友可能会将之误解为国家核计划相关，但实际上，这是“核心电子器件、高端通用芯片及基础软件产品”的简称。 在市场恐惧时中国芯企业/产业资本该本文将讨论近期巴菲特在目前的金融市场环境中入手台积电，给企业资本和产业资本为整合资源和各地方政府建设半导体产业生态带来的启发。 西工大打破吉尼斯世界纪录，扑翼式无人机单次充电飞行15据西北工业大学官宣其扑翼式无人机单次充电飞行时间获得新的吉尼斯世界纪录，认定的纪录时间为 2 小时 34 分 38 秒 62（突破 154 分钟）。 本次刷新世界纪录的“云鸮”扑翼式无人机采用了高升力大推力柔性扑动翼设计、高效仿生驱动系统设计和微型飞控导航一体化集成等关键技术，翼展 1.82m，空载起飞重量为 1kg，手抛起飞，滑翔降落，能够按设定航线自主飞行，飞行过程中能实时变更航线。
其次，如果按照tsmc的标准，用nxt 1980 or nxt 2000型号搞的7nm制程，那SMEE也是不可能达到的。 特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。 在美中對抗持續下，兩岸企業家峰會不僅持續努力維護兩岸產業供應鏈穩定，峰會台灣方面理事長劉兆玄透露，峰會目前已初步選定節能… 中國對於網路科技業的掌控不遺餘力，外媒報導，中國藉由有國資色彩的企業購入阿里巴巴集團旗下2間企業的「1%黃金股」，以此獲… 上海微電子 duv 中國財經媒體鳳凰網旗下自媒體平台昨天披露，熱門短影音平台TikTok母公司字節跳動的創辦人張一鳴已退出中國抖音公司股東行… 去年底金門高粱等多項台灣食品遭中國大陸禁止進口，大陸國台辦昨天表示，包括金門酒廠在內的六十三家台灣食品企業已予以註冊或更…
上海微電子 duv: 消息称上海微电子有望2021年Q4推出DUV设备
面對光刻機遲遲不能發貨，我們也隻剩下一條路可以走，那就是走技術自主研發的道路，面對歐美國傢的技術限制，導致瞭華為的麒麟芯片停產，中芯國際訂購的EUV光刻機，至今也沒有傳出任何出貨的消息，這也直接阻礙瞭國內先進制程工藝的發展。 除「芯片法案」鼓勵企業在美設廠外，並限制獲得美國政府補助的企業在10年內不得於中國建造新廠或是擴充低於28奈米的先進製程。 然而，今年7月上旬，有知情人士向媒體透露，美國正在施壓荷蘭，要求 ASML停止向中國出售DUV。 這意味著美國政府正把對中國光刻機的禁售範圍從先進制程的極紫外線光刻機（EUV）擴大到普遍使用的DUV。 上海微電子 duv 他表示，中芯國際工程師自己洩露了這些自產的機器容易被投訴的情況。
- 然而，随着中美大国竞争帷幕的拉开，我们所面临的，正是这样一种“中国vs外国”——中国必须与美国外加其一切发达国家盟友进行竞争。
- 消息一出，迅速在社交媒体上引发热议，微博上甚至出现“上海微电子交付中国首台光刻机”的标签。
- 近年来，随着外部环境的变化，引来了资本的瞩目，开始重新组织团队开发EDA软件，例如华大九天。
- Patel還透露，有中芯國際的工程師自爆，中國自行開發的 DUV曝光機問題一堆，目前根本沒有製造出功能良好的DUV曝光機。
- 该项目研发成功后将推动国产光刻机一举超越Nikon和Canon的光刻机，成为全球光刻机生产企业第二名。
- 在市场恐惧时中国芯企业/产业资本该本文将讨论近期巴菲特在目前的金融市场环境中入手台积电，给企业资本和产业资本为整合资源和各地方政府建设半导体产业生态带来的启发。
上海微电子的挫折，源于打造28nm自主光刻机最大的问题，并非是制造设备本身。 该项目之宏大，涉及到镜头、光源、精密机械，甚至是浸没工艺必需的高纯水，几乎是考验整个基础工业。 这一结果就是，中国企业近期一直在大量采购ASML生产的NXT系列浸没式光刻机。 目前，仅大陆厂商掌握的NXT 上海微電子 duv 1980Di型DUV光刻机总数就超过了20台，甚至还引进了多台最新式的NXT 2050i型。 后者在每小时晶圆加工数量方面，有着较为显著的提高，且设备可靠性也更佳。 哗啦啦的人民币，朋友圈里卖设备的大牛们奔走相告，买个炉子、光刻机、清洗槽吧。
上海微電子 duv: 业界 | 中国芯片研发新突破：全球首台超分辨光刻装备研制成功
随着移动通信的飞速发展和应用，中国的手机行业也不断发展壮大，当然中国的手机用户也在迅猛增长。 而手机的射频器件中，手机天线是无源器件，手机天线作为手机上面唯一的一个“量身定做”的器件，它的特殊性和重要性必然要求其研发过程对天线性能的测试要求非常严格，这样才能确保手机的正常用。 现在就简单的介绍一下手机天线的研发过程中的几种常见的手机天线测试方法： 1、微波暗室 波… 另外，在半导体光刻过程中，除了光刻分辨率之外，焦深（DOF）也至关重要，大的焦深可以增大刻蚀的清晰范围，提高光刻的质量。 但目前中國大陸的晶片代工廠受限於美國的技術禁運，無法曏ASML的極紫外 光刻機下訂單。 然而，随着中美大国竞争帷幕的拉开，我们所面临的，正是这样一种“中国vs外国”——中国必须与美国外加其一切发达国家盟友进行竞争。
主要从事半导体装备、泛半导体装备以及高端智能装备的设计制造销售，其中光刻设备是公司的主营业务。 而这一切，正是因为缺少芯片制造过程中的核心设备，光刻机。 不过，美国此举反而彻底让我们意识到了“核心能力和技术必须要靠自己”。 为推动国产半导体产业的发展，我国出台了免税等优惠政策，上万家企业入局半导体。 尽管在前一段时间里中科院的光刻机技术在5nm上取得进展，但很多人没有深入去了解清楚。 激光直写光刻机由于不需要掩模板，所以非常有利于实验室环境。
上海微電子 duv: 激發市場活力 上海等地推新政
除了荷兰ASML受影响之外，荷兰的另一大半导体设备厂商ASMI预计也将会进一步受到负面影响。 此前ASMI就曾表示，其2022年第三季度订单受美国对华出口管制新规影响。 ASMI预计，新规将影响其在中国大陆40%以上的销售额，因此该集团决定减少第三季度的订单和相关积压订单。 以理想状态来说：软件本身的开发周期大约3年以上，然后还有2年多的磨合期。 上海微電子 duv 现实中，任何人想要交出一个可以使用的EDA工具软件，至少需要耗费6年时间。
只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。 事实上EUV光刻机的出现，确实是帮助业界突破7nm制程的一个关键。 光刻技术是利用光学复制的方法把超小图样刻印到半导体薄片上来制作复杂电路的技术，所以光的应用是整个刻划技术的关键。 而光也有很多种，按光的波长来划分有可见光、红外光、激光、紫外光、X光等。 根据亚化咨询数据显示，2020年所公开的招中标信息中，上海微电子已共计中标2台半导体用光刻机，将分别供应给上海积塔半导体和中芯绍兴。
上海微電子 duv: 上海微电子年底前将推出28nm光刻机？
2003年上海交通大学微电子学院院长陈进教授从美国买回芯片，磨掉原有标记，作为自主研发成果，骗取无数资金和荣誉，消耗大量社会资源，影响之恶劣可谓空前！ 早在2020年就有消息称上海微电子的国产DUV光刻机SSA800即将在2021年下线，后来又有传闻上海某地政府称将在2022年交付。 此外，还有外媒称上海微电子将会推出一台28nm工艺DUV国产光刻机：“中国国产28nm DUV光刻机计划在今年年底前从上海微电子（SMEE）生产出来。 ” 最后还提到这台光刻机设备不仅仅可以生产28nm工艺芯片，同时还可以生产制造20nm工艺得到5G芯片。 早在2002年，光刻机就被列入国家863重大科技攻关计划，上海微电子装备有限公司也由此成立。 其中，600系列光刻机最新型号SSA600/20的分辨率为90nm，可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
其大多数时候，实际近似于依托一个标准数字模型在那边搞设计。 截至今年上半年，面对全球性芯片短缺这一难得的赚钱良机，中芯国际竭尽其所能，全部28nm产线的月产能也仅仅是勉强达到了1万片（12英寸晶圆，下同）。 世界杯接连爆冷VAR技术引关注，电子竞技领域也将拥抱AI随着2022卡塔尔世界杯的连续爆冷，观众对其VAR（视频助理裁判）的热议甚嚣尘上。
上海微電子 duv: 中國 EUV 封鎖有解？ASML 推 7 奈米製程 DUV
温宁克还警告称，过度的管制措施可能导致芯片制造商的成本上升，因为美国要求从日本到荷兰的盟友帮助限制中国获得关键半导体技术的机会。 “芯片可用性可能会减少，可能是由于出口管制走得太远，这也意味着我们将拥有效率较低的基础设施，成本很可能会上升。 ”美媒曝日荷将对华进行半导体限制：限制部分DUV光刻机对华出口。 据了解，富士康青岛高端半导体封测厂投资 600 亿，是富士康旗下半导体高端封测项目，将运用扇出型封装和晶圆键合堆叠封装技术，业务主要面向目前需求量快速增长的 5G 通信、人工智能等应用芯片。 该项目于2020 年4 月正式签约、7 月开工建设、12 月主体封顶，从开工到量产仅用时18 个月，创造行业建厂新速度。
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- 据业界消息，上海微电子装备可望在2021年第4季交付第二代深紫外光微影设备。
- ”此外，ASML称正在继续评估和关注美国新颁布的出口管制条例，初步评估认为，新的限制并未修订ASML从荷兰运出光刻设备的规则，我们预计其对ASML 2023年整体出货计划的直接影响有限。
- 该芯片以128核于600亿晶体管规模，成为了迄今为止集成晶体管数量最多的量产芯片。
- 随着移动通信的飞速发展和应用，中国的手机行业也不断发展壮大，当然中国的手机用户也在迅猛增长。
资料显示，上海微电子直接持有各类专利及专利申请超过2400项。 由此，网上出现“今年搞定28nm光刻机的目标已经失败了，上海微电子没有通过02专项的国家验收”的消息也不难理解。 当然，这个消息是否真的属实，目前并没有官方的回应，即便该传闻属实，这个锅可能也并不能完全让上海微电子来背。 上海微电子已生产微影机许多年，因此下一代微影机的产量可能大到足以撑起一座先进的晶圆厂。
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在日本首相和荷兰首相本月访美之时，美媒也频繁报道两国领导人与拜登会谈中的对华半导体设备限制的内容。 然而，荷兰最高贸易官员当时表示，不会草率接受美国对华的限制新规。 DUV光刻机分为248nm和193nm光刻机两种类型，193nm光刻机又分为干式和浸没式两种类型。 此次可能会禁运的是浸没式193nm光刻机，目前全球仅有ASML和尼康两家公司生产。
上海微电子负责光刻机设计和总体集成，北京科益虹源提供光源系统，北京国望光学提供物镜系统，国科精密提供曝光光学系统，华卓精科提供双工作台（上海微电子也在自研），启尔机电提供浸没系统。 即便是国产光刻机龙头上海微电子，其自2002年成立至今也有了近20年的光刻机研发历史，但是其已量产的90nm光刻机也仅仅是ASML十多年前的水平。 而这样一款并不先进的90nm光刻机，其内部结构也是非常之复杂，很多关键器件也都是由第三方供应的。 相比之下，中国虽然也有自己的国产光刻机厂商——上海微电子装备股份有限公司（SMEE），但是由于起步晚，再加上国外的技术封锁，使得其在技术上与国外存在着较大差距。 并且表示,这台设备能够用于制造48nm-28nm芯,另外还表示到2023年,上海微电子的光刻技术,将用于制造20nm的5G芯片。 用上海微电子的话说就是，工艺检测设备可以极大程度地提高晶圆制造过程中的工艺控制能力，该类设备正在被前道芯片制造、先进芯片封装等集成电路制造商越来越广泛地采用。
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简单来说，前道光刻的主要作用就是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上。 一台前道制造光刻机，集合数学、光学、流体力学等多项顶尖技术，决定着芯片的制程和性能水平。 目前，一台极紫外光刻机（EUV）集成10万多个零部件，重180吨，需要4架货机运输。
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虽然与台积电和三星目前所采用的3nm相比较相对落后，但28nm制程技术仍被广泛使用。 这足以说明上海微电子在特色技术和新兴产品方面还是有很大竞争力的，击败ASML获得4台订单就是最好的证据。 据悉，上海微电子是此次招标中唯一一家中标工艺检测设备的厂商，相比而言，获得4台工艺检测设备对上海微电子的意义更为重大。 ASML并没有停止DUV光刻机在中国的交付，但是交付的速度确实也不快。
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例如近年来接连告捷的中国大火箭、载人航天以及地外天体探测项目，汇总起来便是其中的载人航天与探月工程专项；国产大客机的C919项目乃至于预研中的C929项目，合并便是国产大型飞机专项。 现在有不小的可能，这项关系到极端情况下芯片能否完全国产化的重大项目，将会延期至2022年——甚至更晚一些的时候。 换而言之，此前业界担心的“美国施压荷兰政府，将对华禁售的阿斯麦光刻机从最先进的极紫外光刻机（EUV）扩展至相对成熟的DUV（ArFi）深紫外光刻机（DUV）”，可以暂时解除了。 显然，在这个统计数据当中，根本都没将上海微电子统计进去。
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2021年的3月初，中芯国际官方通告称公司与ASML阿斯麦公司签订购买协议：2021年2月1日，中芯国际与阿斯麦上海签订了经修订和重述的阿斯麦批量采购协议，金额为12亿美元。 而此次中芯国际并没有透露签订的协议具体内容，不过12亿美元的总价值不低，而目前EUV光刻机也就是1.2亿美元，或许这次购买的数量将大于10台。 2020年和2021年注定是不平凡的两年，美国政府在芯片领域技术对中国的封锁依旧没有任何松动。 而在本月1日，有行业分析师也发微博称，中芯国际之前一直有申请一类关键设备（用于14nm），但一次没有通过，但这次已经获得通过。
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趁着完全独立自主的中国28nm光刻机推出前的这段时间，赶紧多卖给中国更多DUV，对于ASML来说，反而是一箭双雕的好事。 EUV 設備進口中國不可能，中國企業開始將目光從 EUV 製程轉到 DUV 製程。 因中國半導體企業無法 10 奈米以下生產更有利可圖的產品，目標轉以提高 14 奈米或更大製程的產品為主。 根據統計，截至 2020 年底，成熟製程產品就佔整個系統半導體市場銷售金額 73%。 上個月，美國商務部又宣布，禁止對中國出口用於3奈米以下製程的EDA軟體；上一週則限制GPU雙雄超微（AMD）、輝達（NVIDIA）向中國出售高階人工智慧（AI）芯片。
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此外，X射线光刻机相比现在的EUV光刻机还有一个优势，那就是不需要光掩模版，可以直写光刻，这也节省了一大笔费用。 正因为有这么两个特点，俄罗斯要研发的X射线光刻机优势很大，甚至被当地的媒体宣传为全球都没有的光刻机，ASML也做不到。 在曝光光源系统方面，2018年3月3日，由国科精密承担的国家科技重大专项“高NA浸没光学系统关键技术研究”项目在上海通过了任务正式验收，会议要求全力做好28nm节点ArFi光刻机曝光光学系统研制。 上海微电子则是国内光刻机制造技术最先进的厂商，数据显示，其研发制造的光刻机拿下了国内八成的市场，并占领了全球四成的封装光刻机市场。 实际上，实现光刻机的进口替代并不是某一企业能够单独完成的，需要光刻产业链的顶尖企业相互配合，主要环节包括设计和总体集成、光源系统，提供物镜系统，曝光光学系统，双工作台，浸没系统。 2020年6月，方正证券在研报中提到，在02专项光刻机项目二期中，设定的时间为2020年12月验收193nmArF浸没式DUV（深紫外）光刻机，其制程工艺为28nm，对标产品为ASML现阶段最强DUV光刻机：TWINSCAN NXT：2000i。
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按照销售额来计算的话ASML的份额高达91%，佳能只有3%、尼康也仅有6%。 但就在昨天，光刻机大佬ASML公布了其2021年主要业绩。 2021全年，ASML实现净销售额186亿欧元，毛利率达到52.7%，净利润达59亿欧元。
上海微電子 duv: 汽车
自由財經認為，Patel日前透露的情況「等於打臉之前傳出中國上海微電子即將量產28奈米 DUV的訊息」。 Patel還透露，有中芯國際的工程師自爆，中國自行開發的 DUV曝光機問題一堆，目前根本沒有製造出功能良好的DUV曝光機。 回国之后，和国内的企业及各类研究所合作打交道多了之后发现，除了他基本上没什么能打的企业。 先说现金制成，制成越先进，也就是说栅极宽度越小(28 nm，14nm，7nm)，晶体管集成度越高，那么单位面积的运算能力越强。